光譜橢偏儀是一種高精度的光學測量儀器，主要用于分析材料的光學性質(如折射率、消光系數(shù))、薄膜厚度(從納米到微米級)以及表面/界面的微觀結構信息。其核心原理是利用光的偏振狀態(tài)在材料表面反射或透射后的變化，通過解析這種變化反推材料的物理特性，廣泛應用于半導體、光學薄膜、納米材料、生物醫(yī)學等領域。

　　該設備在操作時可以不接觸、無損測量，不破壞樣品；厚度測量可達亞納米級；無需標記或預處理，適用于多種材料。

　　選購光譜橢偏儀時可以關注以下幾點：

　　1、光譜范圍：根據(jù)測量材料的光學特性選擇合適的光譜范圍。例如，透明材料需關注折射率光譜區(qū)域，短波吸收材料可擴展至紅外透明區(qū)域以確定厚度。

　　2、測量精度與重復性：精度是核心指標，需通過標準樣品(如空氣)驗證準確性；重復性則反映儀器穩(wěn)定性，需多次測量對比結果。

　　3、入射角方式：多角度測量可提高可靠性，但并非所有場景都需要。多層膜、吸收膜等復雜結構需多角度測量，而簡單薄膜單角度即可。

　　4、分析軟件：橢偏儀測量為非直接測量，數(shù)據(jù)需擬合分析。軟件應具備豐富的材料數(shù)據(jù)庫、靈活的模型構建能力和高效的算法，以支持快速、準確的參數(shù)反演。

　　5、硬件配置：根據(jù)需求選擇旋轉補償器、自動變角基座、匯聚束技術等硬件。